近面裁剪新增顶点时，UV 必须沿齐次边插值
用四顶点裁剪结果和 1/3 对 1/2 的 UV 反例，说明近面裁剪必须保留齐次位置与原始属性，并把退化多边形交给明确的消费边界。
moyuta
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蒙皮顶点重复位移：矩阵调色板必须回到 Mesh 局部空间
用单骨蒙皮的平移与旋转样本验证矩阵空间，说明绑定矩阵、当前骨骼世界变换和 Mesh 世界逆变换如何共同避免重复位移。
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地形高度查询：双线性采样为何对不上三角形表面
四角高度相同并不保证地形表面相同；高度查询必须采用网格实际对角线的分片插值，或用非共面项明确限制双线性近似的误差。
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局部射线求交：归一化方向为何会选错最近对象
射线进入缩放对象的局部空间后，归一化会改变求交参数；保留未归一化方向及完整二次项，才能直接用世界距离排序和裁剪。
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快照 ACK 位图跳过 32 个序号时，旧位不能继续保留
用固定丢包与乱序输入复现 C# 32 位移位造成的虚假确认，明确 ACK 窗口的位含义、过期边界和发送端可依赖的接收证据。
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颜色纹理生成 Mip：平均值必须在线性光域计算
用黑白纹理和两级归约验证 sRGB Mip 的偏暗来源，将线性工作层与编码存储层分开，并限定逐级量化与实际渲染验证的边界。
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UI 粗折线的长尖角：Miter 限制应改变连接轮廓
半宽为 8 的折线在 150 度转角处可伸出 30.91 的尖角；用偏移直线回归验证 Miter 长度比，并明确切换 Bevel、拒绝折返与完整网格生成之间的接口边界。
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倾斜表面的 UV 插值：屏幕重心为何不能直接当作表面权重
同一个投影点使用屏幕重心直接混合 UV，会把 V 从 0.25 算成 0.5；通过回投影测试确定透视校正公式、clip W 的传递责任与覆盖判定边界。
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大地图负坐标分块：整数除法为何把原点两侧装进同一块
用整数毫米坐标验证负坐标分块与半开范围覆盖，明确向下取整、非负块内偏移和极值边界，让资源键与局部地址共享同一份空间合同。
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镜像变换烘焙进 Mesh 后，法线正确为何仍会被剔除
单轴镜像会改变三角形绕序，却不要求外向法线反转；通过固定三角形与矩阵样本，确定烘焙入口何时交换索引，以及为何不能再重复翻转剔除状态。